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Título:
Ultra-low thermal conductivities in large- area SiGe nanomeshes for thermoelectric applications
Fecha de publicación:
2016
Forma de obra:
Libros de texto
Producción:
Scientific Reports; Vol. 6, Número de artículo 32778, 2016
Idioma:
inglés
Nota de edición:
Digitalización realizada por la Biblioteca Virtual del Banco de la República (Colombia)
Autor:
Pérez Taborda, Jaime Andrés; Muñoz Rojo, Miguel; Maíz, Jon; Neophytos Neophytou; Martin Gonzaleza, Marisol
Materia:
Ciencias naturales y matemáticas; Ciencias naturales y matemáticas / Física
Nota general:
© Derechos reservados del autor
Nota general:
Colfuturo
Nota general:
In this work, we measure the thermal and thermoelectric properties of large-area Si 0.8 Ge 0.2 nano-meshed films fabricated by DC sputtering of Si 0.8 Ge 0.2 on highly ordered porous alumina matrices.
The Si 0.8 Ge 0.2 film replicated the porous alumina structure resulting in nano-meshed films. Very good control of the nanomesh geometrical features (pore diameter, pitch, neck) was achieved through the alumina template, with pore diameters ranging from 294±5nm down to 31±4 nm.
Nota general:
Silicio Germanio; Termoelectricos; Plasma
Enlace permanente:
http://www.cervantesvirtual.com/obra/ultra-low-thermal-conductivities-in-large-area-sige-nanomeshes-for-thermoelectric-applications-866871

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